プラズマ半導体プロセス工学
成膜とエッチング入門
市川幸美 / 佐々木敏明
2003年7月31日
内田老鶴圃
5,280円（税込）
科学・技術
本書は、プラズマプロセスの基礎を学ぼうとする大学生や大学院生、あるいは企業や研究機関において半導体プロセスに携わる開発者や研究者を対象に、プラズマＣＶＤとエッチング技術の基礎を整理、解説したものである。
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